成膜装置

摘要

明之成膜装置之运转方法系使成膜装置运转之方法，该成膜装置系重复复数次将相互不同的处理气体依序供应至基板之循环来层积反应生成物的层而获得薄膜，其包含：真空容器；旋转台，系配置于该真空容器内，用以载置基板并使其公转；第1处理气体供应部，系对基板供应第1处理气体；第2处理气体供应部，系自该第1处理气体供应部远离于该旋转台的旋转方向所设置，且对基板供应第2处理气体；分离区域，系在成膜处理时的该旋转台旋转方向上，设置于该第1处理气体供应部与第2处理气体供应部之间，而供应有用以分离该第1处理气体及该第2处理气体之分离气体；第1真空排气口，系主要用来将该第1处理气体排气；第2真空排气口，系自该第1真空排气口远离于该旋转台的旋转方向所设置，主要用来将该第2处理气体排气；以及清洁气体供应部，系供应用来清洁该旋转台之清洁气体；其中系包含清洁工序，系一边停止从该第1真空排气口之排气，而从该第2真空排气口进行真空排气，一边从该清洁气体供应部对真空容器内供应清洁气体。

主权项

一种成膜装置，系重复复数次将相互不同的处理气体依序供应至基板之循环来层积反应生成物的层而获得薄膜，其包含：真空容器；旋转台，系配置于该真空容器内，用以载置基板并使其公转；第1处理气体供应部，系对基板供应第1处理气体；第2处理气体供应部，系自该第1处理气体供应部远离于该旋转台的旋转方向所设置，且对基板供应第2处理气体；分离区域，系在成膜处理时的该旋转台旋转方向上，设置于该第1处理气体供应部与第2处理气体供应部之间，而供应有用以分离该第1处理气体及该第2处理气体之分离气体；第1真空排气口，系主要用来将该第1处理气体排气；第2真空排气口，系自该第1真空排气口远离于该旋转台的旋转方向所设置，主要用来将该第2处理气体排气；清洁气体供应部，系供应用来清洁该旋转台之清洁气体；以及控制部，系输出控制讯号，以执行停止该第1真空排气口之排气，而从该第2真空排气口将真空容器真空排气之步骤，与在此状态下从该清洁气体供应部对该真空容器内供应清洁气体之步骤。