| 发明名称 | 湿法化学清洗设备中的传送装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种湿法化学清洗设备中的传送装置，包括：传送支架、升降装置和清洗槽，其中，所述升降装置设置在清洗槽的内部，所述传送支架与升降装置连接。本发明湿法化学清洗设备中的传送装置通过升降装置调整位置，能够移动到传送装置的清洗槽中进行自动清洗，无需人工清洗，提高了设备的工作效率。 | ||
| 申请公布号 | CN103400790B | 申请公布日期 | 2016.05.11 |
| 申请号 | CN201310354783.9 | 申请日期 | 2013.08.14 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 刘文燕;李芳;黄耀东 |
| 分类号 | H01L21/677(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/677(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 陆花 |
| 主权项 | 一种湿法化学清洗设备中的传送装置，其特征在于，包括：传送支架、升降装置和清洗槽；其中，所述传送支架和所述升降装置设置在清洗槽的内部，所述传送支架与升降装置连接；所述传送支架包括第一支架和第二支架；其中，第一支架固定设置在传送支架上，第二支架活动设置在传送支架上，所述第一支架和所述第二支架分别用于支撑半导体器件，通过所述第二支架的上下活动实现半导体器件清洗前后的支撑位置不同。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区高科技园区高斯路568号 | ||