发明名称 | 基板处理装置 | ||
摘要 | 本发明涉及一种对基板进行液体处理的装置。基板处理装置包括用于支撑基板的基板支撑单元以及将处理液供给到上述基板处理单元的液体供给单元,上述液体供给单元包括:内部具有储存处理液的储存空间的供给罐;内部具有储存处理液的缓冲空间的多个缓冲罐;将上述缓冲罐提供的处理液供给到基板上的处理液喷嘴,以及将上述供给罐分别并列连接到上述多个缓冲罐的一次供给线。因而,将处理液填充到耗尽状态的缓冲罐时可以通过填充状态的缓冲罐继续执行对基板的液体处理工艺。 | ||
申请公布号 | CN105575854A | 申请公布日期 | 2016.05.11 |
申请号 | CN201510732532.9 | 申请日期 | 2015.11.02 |
申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 金哲佑 |
分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 吕琳;杨生平 |
主权项 | 一种基板处理装置,其包括:基板支撑单元,其用于支撑基板;以及液体供给单元,其用于将处理液供给到所述基板处理单元,其中,所述液体供给单元包括:供给罐,其内部具有储存处理液的储存空间;多个缓冲罐,其内部具有储存处理液的缓冲空间;处理液喷嘴,其用于将所述缓冲罐所提供的处理液供给到基板上;以及一次供给线,其用于将所述供给罐以并列的方式分别连接到所述多个缓冲罐。 | ||
地址 | 韩国忠青南道天安市 |