一种等离子处理器及其运行方法

摘要

本发明提供一种等离子反应器及其处理方法。所述处理方法包括步骤：提供处理气体进入等离子处理器，电燃等离子体对基片进行处理；熄灭等离子体；气体供应系统提供低压气体到气缸，使处于电接地状态的举升管脚上升并接触基片背面；举升管脚抬升基片到第一高度时气体供应系统提供高压气体到气缸使举升管脚上升到第二高度；移除基片。

主权项

一种等离子处理器，包括：一个反应腔，反应腔内包括一个基座，基座上方包括一个静电夹盘，待处理基片放置在静电夹盘上，所述基座内还包括一个冷却气体供应管道向基片下表面供应冷却气体；基座下部包括一个气缸，气缸内包括一个活塞，所述活塞连接到多个举升管脚，所述举升管脚与基座上方的静电夹盘内的多个举升孔位置对应，其特征在于：所述气缸连接到一个供气系统，所述供气系统提供高压和低压两种气压的气体到气缸，在供气系统提供低压气体到气缸时举升管脚顶端具有第一高度位置；供气系统提供高压气体到气缸时举升管脚顶端具有第二高度位置，其中所述举升管脚电连接到接地端；所述供气系统包括一个气源提供稳定的高压气体和一个气压调节器从输入端接收来自气源的高压气体并在输出端输出稳定的低压气体，还包括一个旁路开关连接在所述气压调节器的输入端和输出端。