发明名称 具有太阳能选择性吸收薄膜膜系的制备方法
摘要 一种具有太阳能选择性吸收薄膜膜系的制备方法,包括如下步骤:(1)采用氢氟酸和TMAH混合后的复合溶液对金属基片进行喷淋(2)清洗金属基片,后用高压N<sub>2</sub>吹干;(3)采用磁控溅射技术在所述金属基片表面微结构上沉积的TiN高金属填充因子层、TiNxOy低金属填充因子层、TiO2、AlN和SiO<sub>2</sub>组成的减反层,从而得到太阳能选择性吸收膜系。本发明采用氢氟酸和TMAH混合后的复合溶液对金属基片表面进行喷淋处理,获得微结构的金属基片,然后在金属基片上以磁控溅射技术沉积TiN高金属填充因子层、TiNxOy低金属填充因子层、TiO<sub>2</sub>,AlN和Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>减反层,从而得到具有高吸收率、低发射率太阳能选择性吸收膜系,提高了太阳能光热转换的效率。
申请公布号 CN105568238A 申请公布日期 2016.05.11
申请号 CN201511020165.6 申请日期 2015.12.30
申请人 中国建材国际工程集团有限公司 发明人 彭寿;杨勇;王芸;徐根保;李刚;曹欣;姚婷婷;蒋继文;张宽翔;金克武
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I;F24J2/48(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 上海硕力知识产权代理事务所 31251 代理人 王法男
主权项 一种具有太阳能选择性吸收薄膜膜系的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)采用氢氟酸和TMAH混合后的复合溶液对金属基片进行喷淋;(2)清洗金属基片,后用高压N2吹干;并且(3)采用磁控溅射技术在所述金属基片表面微结构上沉积的TiN高金属填充因子层、TiNxOy低金属填充因子层、TiO<sub>2</sub>、AlN和SiO<sub>2</sub>组成的减反层,从而得到太阳能选择性吸收膜系。
地址 200061 上海市普陀区中山北路2000号中期大厦27层
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