发明名称 |
RADIATION SOURCE LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
摘要 |
리소그래피 장치(1)는 컬렉터(CO) 및 방사선 소스(105)를 포함하는 소스 모듈(SO) - 상기 컬렉터(CO)는 상기 방사선 소스(105)로부터 방사선을 수집하도록 구성됨 - ; 상기 컬렉터(CO)에 의해 수집된 상기 방사선을 컨디셔닝하고, 방사선 빔을 제공하도록 구성된 일루미네이터(IL); 및 상기 일루미네이터(IL)에 대해 고정된 위치 관계에 배치된 검출기(301) - 상기 검출기(301)는 상기 컬렉터(CO)에 대한 상기 방사선 소스(105)의 위치 및 상기 일루미네이터(IL)에 대한 상기 소스 모듈(SO)의 위치를 결정하도록 구성됨 - 를 포함한다. |
申请公布号 |
KR101619272(B1) |
申请公布日期 |
2016.05.10 |
申请号 |
KR20117004189 |
申请日期 |
2009.07.15 |
申请人 |
에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. |
发明人 |
클라센, 미첼;그로에네벨트, 로지어;스트류켄, 알렉산더;스빈켈스, 게라르두스후베르투스 |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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