| 摘要 |
1. Система электронно-лучевой литографии, содержащая:- генератор элементарных лучей для генерирования множества элементарных лучей;- множество элементов управления элементарным лучом для управления элементарными лучами, причем по меньшей мере один из элементов управления элементарным лучом содержит апертурную решетку;- генератор плазмы, содержащий камеру (2), в которой может быть образована плазма, причем камера содержит впуск (5) для приема вводимого газа и один или более выпусков (6) для удаления по меньшей мере одного из плазмы и радикалов, созданных в ней; и- полое направляющее тело (9) для направления образованных в плазме радикалов к апертурной решетке, на которой подлежит удалению отложение загрязнения;- причем камера снабжена ограничителем потока.2. Система электронно-лучевой литографии по п. 1, в которой ограничителем потока является перфорированная стенка.3. Система электронно-лучевой литографии по п. 1, дополнительно содержащая регулятор (8) давления, имеющий впуск с первой площадью поперечного сечения и выпуск со второй площадью поперечного сечения, причем первая площадь поперечного сечения больше, чем вторая площадь поперечного сечения, впуск регулятора давления соединен с одним или более выпусками камеры, выпуск регулятора давления соединен с направляющим телом.4. Система электронно-лучевой литографии по п. 3, в которой регулятор давления принимает форму воронки (8).5. Система электронно-лучевой литографии по п. 3, в которой выпуск регулятора давления снабжен удлиненным участком, к которому разъемно прикрепляется направляющее тело.6. Система электронно-лучевой литографии по п. 5, дополнительно содержащая кожух (400) для размещения поверх со |
