| 摘要 |
Вакуумная установка для нанесения сверхтвердого покрытия на основе аморфного углерода на детали, содержащая размещенные в вакуумной камере импульсный источник углеродной плазмы, включающий в себя катодный узел с цилиндрическим графитовым катодом, анодный узел с анодом и систему поджига для инициирования импульсного разряда, источник газовой плазмы, источник металлической плазмы и устройство для закрепления и вращения деталей, отличающаяся тем, что она снабжена вакуумно-дуговым источником металлической плазмы, а в качестве источника газовой плазмы используется протяженный источник с замкнутым дрейфом электронов, при этом катодный узел содержит не менее двух цилиндрических графитовых катодов, количество которых определяется из условия соответствия конфигурации обрабатываемой детали, а рабочей поверхностью катодов является торцевая поверхность цилиндров, обращенная к устройству для закрепления и вращения деталей, при этом анодный узел оснащен системой фокусировки плазменного потока, а вакуумно-дуговой источник металлической плазмы оснащен системой отклонения плазменного потока, причем система поджига для инициирования разряда содержит плазменные инжекторы, выполненные с возможностью генерирования углеродной плазмы в направлении рабочей торцевой поверхности графитовых катодов. |
