发明名称 |
montagem de uma placa de suporte, método para reduzir rugas em uma lâmina, e, método em uma máquina de enchimento. |
摘要 |
montagem de uma placa de suporte, método para reduzir rugas em uma lâmina, e, método em uma máquina de enchimento. a presente invenção refere-se a uma montagem de uma placa de suporte (22) e uma lâmina de janela de saída (20) para uso em um dispositivo gerador de feixe de elétrons. a dita placa de suporte (22) é projetada para reduzir rugas na dita lâmina (20). a lâmina (20) é unida à placa de suporte (22) ao longo de uma linha de união fechada delimitando uma área na qual a placa de suporte (22) é provida de um padrão de orifícios e porcões de suporte de lâmina alternadamente. quando vácuo é criado no alojamento, o dito padrão é adaptado para formar um perfil topográfico da lâmina (20) substancialmente absorvendo qualquer excesso de lâmina. a invenção refere-se também a métodos, um sendo um método em uma máquina de enchimento para esterilizar folha contínua de material de embalagem. |
申请公布号 |
BR112012019759(A2) |
申请公布日期 |
2016.05.10 |
申请号 |
BR20121119759 |
申请日期 |
2011.02.01 |
申请人 |
TETRA LAVAL HOLDINGS & FINACE SA |
发明人 |
ANDERS KRISTIANSSON;KURT HOLM;MATTIAS HENRIKSON;TONI WABER;ULRIKA LINNÉ;WERNER HAAG |
分类号 |
G21K5/04;H01J5/18;H01J33/04 |
主分类号 |
G21K5/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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