发明名称 一种建立版图设计规则检测文件验证图形库的方法
摘要 本发明公开了一种版图设计规则检测文件验证图形库及建立该验证图形库的方法,该版图设计规则检测文件验证图形库包括:最小线宽、最小间距、一图层包另一图层的最小距离、一图层延伸另一图层的最小距离、两图层部分重叠最小宽度的单层图形以及多层图形之间的设计规则检测;本发明提供的版图设计规则检测文件验证图形库一方面可以弥补由于验证工程师经验不足而带来验证图形种类不齐全;另一方面可缩短建立验证图形的开发周期;此版图设计规则检测文件验证图形库不仅可以供任何一位版图验证工程师手动建立验证图形时参考,而且可以用于验证图形自动化生成工具,直接调取图形库文件,借用工具修改基本线宽、层次等变量来实现验证图形的批量生产。
申请公布号 CN103310037B 申请公布日期 2016.05.04
申请号 CN201310156194.X 申请日期 2013.04.28
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 杨婷;童庆强
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 陆花
主权项 一种建立版图设计规则检测文件验证图形库的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一:对设计规则说明书中所涉及到的所有设计规则分为:最小线宽、最小间距、一图层包另一图层的最小距离、一图层延伸另一图层的最小距离、两图层部分重叠最小宽度的单层图形以及多层图形之间的设计规则检测五部分;步骤二:根据版图设计规则文件的特性对步骤一中的每一条设计规则划分为正确的验证图形部分和错误的验证图形部分;步骤三:根据工艺或集成电路对不同物理层次的敏感程度不同,将所述版图设计规则检测文件验证图形库中的模拟验证图形分为敏感层以及阱/离子注入层;步骤四:根据集成电路版图图形的多样性及特殊性,以及不同物理验证工具支持不同形状的图形检测功能,将版图设计规则检测文件验证图形库进行进一步细分,其中:最小线宽设计规则检测细分为:两平行边对边检测图形、内角对内角检测图形、角接触角检测图形、非45度锐角检测图形、45度边对非45度边检测图形、45度边对45度边检测图形、45度边对内角检测图形;最小间距设计规则检测细分为:两平行边对边检测图形、两平行边但无投影区域检测图形、同图层凹形区域检测图形、角接触角检测图形、45度边对45度边检测图形及45度边对外角检测图形;一图层包另一图层的最小距离设计规则检测细分为:两图层的平行边检测图形、两图层内边接触外边检测图形、一图层横跨另一图层检测图形、两图层45度内边对外距离检测图形、45度内边对角的距离检测图形、45度边与角接触检测图形;一图层延伸另一图层的最小距离设计规则检测细分为:一图层延伸另一图层的距离检测图形、以及一图层外边接触另一图层内边检测图形;两图层部分重叠最小宽度设计规则检测细分为:两内边距离检测图形、以及两图层角重叠距离检测图形。
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