发明名称 |
曝光量测装置及其量测平台 |
摘要 |
本发明的优选实施例提供了一种曝光量测装置及其量测平台,用于量测基板上曝光图案的临界尺寸及覆盖数据。所述曝光精度量测装置包括:整体式上板,具有上表面,所述上表面用于承载基板;整体式下板,设置于所述整体式上板下方;以及多个高度调整机构,设置于所述整体式上板及所述整体式下板之间,用于支撑于所述整体式上板以及所述整体式下板之间,并可透过分别微调所述多个高度调整机构而使所述整体式上板的所述上表面平坦化。 |
申请公布号 |
CN105549338A |
申请公布日期 |
2016.05.04 |
申请号 |
CN201610089588.1 |
申请日期 |
2016.02.18 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
祖伟 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 |
代理人 |
黄威 |
主权项 |
一种曝光量测装置,用于量测基板上曝光图案的临界尺寸及覆盖数据,其特征在于,所述曝光精度量测装置包括:整体式上板,具有上表面,所述上表面用于承载基板;整体式下板,设置于所述整体式上板下方;以及多个高度调整机构,设置于所述整体式上板及所述整体式下板之间,用于支撑于所述整体式上板以及所述整体式下板之间,并可透过分别微调所述多个高度调整机构而使所述整体式上板的所述上表面平坦化。 |
地址 |
430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |