| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben einer Plasmavorrichtung mit einer ersten Kammer und einer zweiten Kammer, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist, nämlich ein Einleiten eines ersten Gasgemisches in die erste Kammer, ein Ionisieren des ersten Gasgemisches in der ersten Kammer zum Erzeugen eines ersten kalten Plasmas oder eines zweiten Gasgemisches, ein Einleiten des in der ersten Kammer erzeugten ersten kalten Plasmas oder zweiten Gasgemisches und eines dritten, vom ersten Gasgemisch verschiedenen Gasgemisches in die zweite Kammer, so dass sich in der zweiten Kammer das dritte Gasgemisch mit dem ersten kalten Plasma oder dem zweiten Gasgemisch mischen und zu einem zweiten kalten Plasma oder einem vierten, reaktiven Sauerstoff- und/oder Stickstoffspezies enthaltenden Gasgemisch reagieren, Darüberhinaus betrifft die Erfindung eine Plasmavorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas und eine Steuereinheit. |
