发明名称 用于腔室端口的气体设备、系统及方法
摘要 一种电子装置制造系统可包括腔室端口组件,该腔室端口组件提供传送腔室与处理腔室之间的接口。在某些实施方式中,该腔室端口组件可配置来导引净化气流至该腔室端口组件的基板传送区域中。在其他实施方式中,处理腔室及/或该传送腔室可配置来导引净化气流至该基板传送区域中。流入该基板传送区域中的该净化气流可防止及/或减少来自腔室硬件的微粒状物质迁移至正在该传送腔室与处理腔室之间传送的基板上。也提供组装腔室端口组件的方法,以及其他态样。
申请公布号 CN105556640A 申请公布日期 2016.05.04
申请号 CN201480049216.5 申请日期 2014.09.24
申请人 应用材料公司 发明人 纳根德拉·V·马迪瓦;罗伯特·欧文·德科蒂尼斯;安德鲁·阮;保罗·B·路透;安吉拉·R·斯科;迈克尔·库查尔;特雷斯·莫瑞;米切尔·迪桑图
分类号 H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国;赵静
主权项 一种电子装置制造系统的腔室端口组件,包括:盖体,所述盖体具有形成于其中的气体入口以及延伸通过其中的第一气体通道,所述第一气体通道流体连通于所述气体入口;气体导管构件,所述气体导管构件具有延伸通过其中的第二气体通道,所述第二气体通道流体连通于所述第一气体通道;框插件,所述框插件具有第三气体通道,所述第三气体通道流体连通于所述第二气体通道;及一或更多个气体喷嘴,所述一或更多个气体喷嘴耦接于所述框插件并且流体连通于所述第三气体通道,所述一或更多个气体喷嘴配置来导引在所述气体入口处所接收的气流至基板传送区域,当基板从第一腔室传送通过所述腔室端口组件至第二腔室时,所述基板传送区域配置来接收所述基板。
地址 美国加利福尼亚州