发明名称 阵列基板及其制作方法、显示装置
摘要 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,属于显示技术领域。其中,阵列基板,包括第一导电图形、覆盖所述第一导电图形的绝缘层、位于所述绝缘层上的第二导电图形,所述绝缘层包括有用以连接所述第一导电图形和所述第二导电图形的过孔,所述过孔内形成有与所述第一导电图形和第二导电图形连接的导电柱。本发明的技术方案能够解决过孔处配向膜扩散不均引起的Mura不良,改善显示装置的显示效果。
申请公布号 CN105552024A 申请公布日期 2016.05.04
申请号 CN201610143214.3 申请日期 2016.03.14
申请人 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 发明人 任锦宇;王丹;徐长健;马国靖;周波
分类号 H01L21/768(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I 主分类号 H01L21/768(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 许静;黄灿
主权项 一种阵列基板,包括第一导电图形、覆盖所述第一导电图形的绝缘层、位于所述绝缘层上的第二导电图形,所述绝缘层包括有用以连接所述第一导电图形和所述第二导电图形的过孔,其特征在于,所述过孔内形成有与所述第一导电图形和第二导电图形连接的导电柱。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
您可能感兴趣的专利