发明名称 Cleansing composition for removing makeup using wetting power of polyol and facial cosmetic composition containing the same
摘要 본 발명은 색조 화장료에 함유되어 있는 안료, 염료, 미세 무기성분 입자를 용이하게 팽윤시켜 제거하는 메이크업 제거용 세정제 조성물, 및 이를 유효성분으로 함유하여 메이크업 제거와 세안을 동시에 수행할 수 있도록 하는 세안 화장료 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따르면 탄소수가 3~6이고 수산기(-OH)가 2개 이상인, 2종 이상의 다가 알코올 60~80중량%; 및 HLB값이 10~17인 트리글리세라이드 폴리에틸렌글리콜(PEG) 에스테르 및 트리글리세라이드 글리세레스(Glycereth) 에스테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 비이온 계면활성제 20~40중량%로 이루어지는 메이크업 제거용 세정제 조성물이 제공된다.
申请公布号 KR101618174(B1) 申请公布日期 2016.05.04
申请号 KR20140068436 申请日期 2014.06.05
申请人 주식회사 코스만 发明人 김진우
分类号 A61K8/34;A61K8/72;A61Q1/00;A61Q1/14 主分类号 A61K8/34
代理机构 代理人
主权项
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