发明名称 |
套刻标记 |
摘要 |
本发明提供了一种套刻标记,在至少两个光刻层次生成,其中,每个光刻层次的套刻标记均是由等间距放置的正方形或在水平方向和垂直方向设有对称长边的正多边形组成的nxn阵列,且同一光刻层次阵列中的所述正方形或所述正多边形尺寸相等,不同光刻层次阵列中的所述正方形或所述正多边形尺寸不同,所述n为大于等于3的奇数。与现有技术相比,本发明的有益效果是:成本较低、操作简单、方便读取、不易产生误判断。 |
申请公布号 |
CN102543954B |
申请公布日期 |
2016.05.04 |
申请号 |
CN201010578054.8 |
申请日期 |
2010.12.08 |
申请人 |
无锡华润上华科技有限公司 |
发明人 |
黄玮 |
分类号 |
H01L23/544(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/544(2006.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人 |
余明伟 |
主权项 |
一种套刻标记,在至少两个光刻层次生成,其特征在于:每个光刻层次的套刻标记均是由等间距放置、在水平方向和垂直方向设有对称长边的正多边形组成的nxn阵列,且同一光刻层次阵列中的所述正多边形尺寸相等,不同光刻层次阵列中的所述正多边形尺寸不同,各层次套刻标记的阵列中心重叠,所述阵列中心的所述正多边形的水平方向和垂直方向对应边长之间的间距大于该各层次的套刻规范,所述n为大于等于3的奇数。 |
地址 |
214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 |