发明名称 厚度均匀的箔式应变计
摘要 本实用新型公开一种厚度均匀的箔式应变计,包括薄膜基底、敏感栅和密封层,所述薄膜基底与敏感栅热压贴合,所述热压贴合为薄膜基底与敏感栅在一定温度条件下热压复合,或薄膜基底与敏感栅通过热熔胶在一定温度条件下热压粘合;所述密封层热压贴合于敏感栅的上表面。通过将薄膜基底与敏感栅采用热压结合的方式,免去涂胶的工序,避免胶沾过程中薄膜基底与敏感栅难以定位贴合的情况,提高了应变计的生产效率,更容易实现批量化生产;同时,不会出现因涂胶不均匀而导致的基底厚度一致性差的情况,厚度更加均匀,在使用中性能更加稳定,精度更高,也增加了薄膜基底与敏感栅之间的粘贴力强度,进而提升了应变计的剥离强、耐腐蚀性能和综合性能指标。
申请公布号 CN205209473U 申请公布日期 2016.05.04
申请号 CN201520840460.5 申请日期 2015.10.26
申请人 范红中 发明人 范红中
分类号 G01B21/32(2006.01)I 主分类号 G01B21/32(2006.01)I
代理机构 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 代理人 陈双喜
主权项 一种厚度均匀的箔式应变计,包括薄膜基底、敏感栅和密封层,其特征在于:所述薄膜基底与敏感栅热压贴合,所述热压贴合为薄膜基底与敏感栅在一定温度条件下热压复合,或薄膜基底与敏感栅通过热熔胶在一定温度条件下热压粘合;所述密封层热压贴合于敏感栅的上表面。
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