| 发明名称 | 溅射用钛靶 | ||
| 摘要 | 一种溅射用钛靶，其特征在于，肖氏硬度为Hs20以上，并且基面取向率为70%以下。上述溅射用钛靶，其特征在于，除气体成分以外的钛的纯度为99.995质量%以上。本发明课题在于提供一种高品质的溅射用钛靶，所述钛靶在使杂质降低的同时，即使在高功率溅射(高速溅射)时也不产生龟裂、破裂，能够使溅射特性稳定，能够有效地抑制成膜时的粉粒产生。 | ||
| 申请公布号 | CN103180482B | 申请公布日期 | 2016.05.04 |
| 申请号 | CN201180051337.X | 申请日期 | 2011.10.24 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 塚本志郎;牧野修仁;福世秀秋 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种溅射用钛靶，其特征在于，肖氏硬度为Hs25以上且Hs30.1以下，并且基面取向率为46％以上且70％以下，所述基面由面指数为(002)、(103)、(104)、(105)的面构成。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||