一种移动式硅片退火设备

摘要

本发明涉及半导体器件技术领域，具体涉及一种移动式硅片退火设备。一种移动式硅片退火设备，包括支撑台架、支撑台架上通过一主体移动结构安装有依次连接的箱门、加热系统、石英管、真空系统以及充气系统；另外，支撑台架上还设有一电控部分，电控部分与加热系统相连。本发明温度均匀性好、密封性好，并且一次性处理硅片数量多，对硅片零污染，解决了硅片退火处理工艺要求很高、普通设备无法满足的难题，提高了硅片制成品性能的一致性及可靠性，很大程度上提高了生产效率。设备在半导体材料制造、电子元器件封装领域均可以有很大的应用空间，经济效益显著。

主权项

一种移动式硅片退火设备，其特征在于：包括支撑台架（7）、支撑台架（7）上通过一主体移动结构（8）安装有依次连接的箱门（2）、加热系统（3）、石英管（4）、真空系统（5）以及充气系统（6）；另外，支撑台架（7）上还设有一电控部分（1），电控部分（1）与加热系统（3）相连。