发明名称 |
一种消除B掺杂晶硅太阳电池光致衰减的方法及其设备 |
摘要 |
本发明公开了一种消除B掺杂晶硅太阳电池光致衰减的方法,依次包括如下步骤:S1:将电池片在第一温度下进行高光照处理,持续第一时间;S2:将电池片在第二温度下进行高光照处理,持续第二时间;S3:将电池片在第三温度下进行高光照处理,持续第三时间;其中,第二时间长于第一时间和第二时间,高光照处理的光照强度范围为1×10<sup>3</sup>w/m<sup>2</sup>~3×10<sup>6</sup>w/m<sup>2</sup>。本发明还公开了一种消除B掺杂晶硅太阳电池光致衰减的设备,包括:传输轨道,用于输送电池片;以及沿输送路径依次设置的第一光照区、第二光照区以及第三光照区。本发明可以极大程度上、甚至完全消除与光致衰减相关的复合中心,从而抑制衰减,实现电池的高效和高可靠性。 |
申请公布号 |
CN105552173A |
申请公布日期 |
2016.05.04 |
申请号 |
CN201610091453.9 |
申请日期 |
2016.02.19 |
申请人 |
常州天合光能有限公司 |
发明人 |
崔艳峰;陈奕峰;王子港;端伟元;皮尔·威灵顿 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
浙江永鼎律师事务所 33233 |
代理人 |
郭小丽 |
主权项 |
一种消除B掺杂晶硅太阳电池光致衰减的方法,其特征在于:依次包括如下步骤:S1:将电池片在第一温度下进行高光照处理,持续第一时间;S2:将电池片在第二温度下进行高光照处理,持续第二时间;S3:将电池片在第三温度下进行高光照处理,持续第三时间;其中,第二时间长于第一时间和第二时间,高光照处理的光照强度范围为1×10<sup>3</sup>w/m<sup>2</sup>~3×10<sup>6</sup>w/m<sup>2</sup>。 |
地址 |
213031 江苏省常州市新北区天合光伏产业园天合路2号 |