PHOTOMASK-FORMING GLASS SUBSTRATE AND MAKING METHOD

摘要

본 발명은 포토마스크의 유지부가 위치하는 정방형 형상의 기판 표면의 주연을 이루는 변 중 대향하는 2변의 각각의 변으로부터 내측 2 mm와 10 mm 사이에서, 각각의 변의 길이 방향 양끝으로부터 2 mm의 부분을 제외한 범위에 위치하는 2개의 벨트상 영역에 있어서, 임의의 공통 기준 평면으로부터 각 벨트상 영역 내의 각 좌표에 대한 거리에 기초하여 산출되는 2개의 최소 제곱 평면의 법선끼리 이루는 각도가 10 초 이하이고, 2개의 벨트상 영역의 높이가 0.5 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 포토마스크용 유리 기판을 제공한다. 본 발명에 따르면, IC 등의 제조시에 중요한 광 리소그래피법에서 사용되는 실리카 유리계 등의 포토마스크용 유리 기판에서, 포토마스크 노광시 마스크 스테이지에 포토마스크를 진공 척 등에 의해 고정시켰을 때 포토마스크 전체의 표면 형상 변화가 억제된 유리 기판을, 종래의 검사 공정과 마찬가지의 공정에서 양호한 생산성으로 제공할 수 있다.