一种用于等离子体处理腔室的约束环及腔室清洁方法

摘要

本发明提供了一种用于等离子体处理腔室的约束环及腔室清洁方法，所述约束环为可移动的，以在所述基座和所述约束环之间能够产生一开口，使得清洁用的等离子体能够通过该开口进入所述排气区域。本发明能够有效清洁约束环下面产生的聚合物污染。

主权项

一种用于等离子体处理腔室的约束环，其中，所述等离子体处理腔室包括等离子制程区域和排气区域，所述约束环位于所述等离子处理腔室的等离子制程区域和排气区域之间，具有多个气体通道，在所述等离子体处理腔室的下部设置有一基座，其特征在于：所述约束环为可移动的，以在所述基座和所述约束环之间能够产生一开口，使得清洁用的等离子体能够通过该开口进入所述排气区域，其中，所述等离子体处理腔室还包括一驱动装置，所述驱动装置用于带动所述约束环移动；在所述基座的静电夹盘以下的所述基座外围以及所述腔室内壁分别设置有第一支撑装置和第二支撑装置，所述约束环的第一端和第二端分别与第一支撑装置和第二支撑装置接触。