光刻胶回收装置，涂布系统及涂布方法

摘要

本发明涉及液晶制程领域，公开了一种光刻胶回收装置，涂布系统和涂布方法。光刻胶回收装置，包括：第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶；空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气口；第一连接管，其位于上方的一端与第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与空心体位于上方的部分相连通；第一容纳单元内的光刻胶经第一连接管滴落至空心体内；其中，空心体用于通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。涂布系统包括上述光刻胶回收装置。涂布方法是涂布系统的涂布方法。本发明使得在基板上形成的膜厚度均匀，同时，不仅节约了光刻胶，而且保证了回收的光刻胶的洁净度。

主权项

一种光刻胶回收装置，其特征在于，包括：第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶；空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气口；第一连接管，其位于上方的一端与所述第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述空心体位于上方的部分相连通；所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内；其中，所述空心体用于在所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内的过程中，通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。