晶体管的形成方法

摘要

一种晶体管的形成方法，包括：提供的衬底包括基底、位于基底表面的鳍部、以及位于基底表面的隔离层，所述隔离层覆盖部分鳍部的侧壁表面，且所述隔离层的表面低于所述鳍部的顶部表面；形成栅极层、掩膜层和保护层，所述栅极层横跨在所述鳍部上，且所述栅极层位于部分隔离层表面、以及鳍部的侧壁和顶部表面，所述掩膜层位于所述栅极层的顶部表面，所述栅极层包括第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁平行于所述鳍部的长度方向，所述第二侧壁垂直于所述鳍部的长度方向，所述保护层位于所述第一侧壁靠近顶部的部分表面；在所述保护层表面以及栅极层的侧壁形成侧墙；在所述侧墙和栅极层两侧的鳍部内形成应力层。所形成的晶体管形貌良好、性能改善。

主权项

一种晶体管的形成方法，其特征在于，包括：提供衬底，所述衬底包括基底、位于基底表面的鳍部、以及位于基底表面的隔离层，所述隔离层覆盖部分鳍部的侧壁表面，且所述隔离层的表面低于所述鳍部的顶部表面；形成栅极层、掩膜层和保护层，所述栅极层横跨在所述鳍部上，且所述栅极层位于部分隔离层表面、以及鳍部的侧壁和顶部表面，所述掩膜层位于所述栅极层的顶部表面，所述栅极层包括第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁平行于所述鳍部的长度方向，所述第二侧壁垂直于所述鳍部的长度方向，所述保护层位于所述第一侧壁靠近顶部的部分表面；在所述保护层表面以及栅极层的侧壁形成侧墙；在所述侧墙和栅极层两侧的鳍部内形成应力层。