| 发明名称 |
COMPOSITIONS AND METHODS FOR SELECTIVELY ETCHING TITANIUM NITRIDE |
| 摘要 |
본 발명은 표면 상에 티타늄 니트라이드 및/또는 포토레지스트 에칭 잔사 물질을 갖는 마이크로전자 장치로부터, 절연 물질에 비해 상기 물질을 선택적으로 제거하는데 유용한 조성물에 관한 것이다. 상기 제거 조성물은 하나 이상의 산화제, 하나 이상의 에칭제, 및 티타늄 니트라이드의 에칭 속도를 강화시키기 위한 하나 이상의 활성화제를 포함한다. |
| 申请公布号 |
KR20160048909(A) |
申请公布日期 |
2016.05.04 |
| 申请号 |
KR20167008098 |
申请日期 |
2014.08.28 |
| 申请人 |
ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS INC.;ATMI TAIWAN CO., LTD. |
发明人 |
COOPER EMANUEL I.;CHEN LI MIN;LIPPY STEVEN;HSU CHIA JUNG;TU SHENG HUNG;WANG CHIEH JU |
| 分类号 |
C09K13/10;C09K13/06;C09K13/08;H01L21/306 |
主分类号 |
C09K13/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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