| 发明名称 | 用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其包含：重均分子量大于95g/mol的链胺化合物；重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物；环胺化合物；其中具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基基团被氮单取代或双取代的基于酰胺的化合物；和极性有机溶剂，其中所述重均分子量大于95g/mol的链胺化合物与所述重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物的重量比为1∶1至1∶10；还涉及一种使用所述剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN105556392A | 申请公布日期 | 2016.05.04 |
| 申请号 | CN201580000649.6 | 申请日期 | 2015.08.18 |
| 申请人 | 株式会社LG化学 | 发明人 | 朴泰文;郑大哲;李东勋;李佑然;李贤濬;金周永 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 顾晋伟 |
| 主权项 | 一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其包含：重均分子量大于95g/mol的链胺化合物；重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物；环胺化合物；其中具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基基团被氮单取代或双取代的基于酰胺的化合物；和极性有机溶剂，其中所述重均分子量大于95g/mol的链胺化合物与所述重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物的重量比为1∶1至1∶10。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||