发明名称 |
湿制程反应设备及其湿制程反应槽 |
摘要 |
本发明公开了一种湿制程反应设备及其湿制程反应槽,包含一药液槽、至少一导流板以及一限制板,药液槽用于容置药液,药液槽具有一开口、一药液入口以及一药液出口,药液朝向药液出口流动,导流板凸设于药液槽内且交会药液流经路径,导流板凸出药液槽底面的高度落差对于流经导流板的药液产生扰动。限制板设置于药液槽内邻近药液出口处以将流经药液槽的部分药液拦阻留存于药液槽内。 |
申请公布号 |
CN105543809A |
申请公布日期 |
2016.05.04 |
申请号 |
CN201510686873.7 |
申请日期 |
2015.10.22 |
申请人 |
亚智科技股份有限公司 |
发明人 |
陈传宜;陈家达;游柏清;陈立凯 |
分类号 |
C23C18/00(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
C23C18/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 |
代理人 |
刘化帅 |
主权项 |
一种湿制程反应槽,用以供一药液与一基材进行化学制程,其特征在于,该湿制程反应槽包含:一药液槽,该药液槽用于容置所述药液,该药液槽具有一开口、一药液入口以及一药液出口,该开口供所述基材置入该药液槽,该药液入口供所述药液流入该药液槽,该药液槽内的所述药液朝向该药液出口流动,该药液出口供所述药液流出该药液槽;至少一导流板,凸设于该药液槽内且交会所述药液流经路径,该导流板凸出该药液槽底面的高度落差对于流经该导流板的所述药液产生扰动;以及一限制板,设置于该药液槽内邻近该药液出口处,该限制板用于将流经该药液槽的部分所述药液拦阻留存于该药液槽内,且该限制板的顶缘位置限制该药液槽内的所述药液的液面位置。 |
地址 |
中国台湾桃园县中坜市自强三路三号 |