煎烤装置

摘要

本发明公开了一种煎烤装置，煎烤装置包括：下烤盘、上烤盘以及发热管，上烤盘可转动地连接至下烤盘，且上烤盘与下烤盘之间限定出煎烤腔室，上烤盘和下烤盘在闭合状态时煎烤腔室的高度为10-15mm，上烤盘和下烤盘均为方形烤盘，发热管设在上烤盘和下烤盘的至少一个内且盘绕设置，发热管的中心线与其所在的上烤盘和/或下烤盘的内侧壁之间的最近距离不大于50mm。根据本发明的煎烤装置，通过将煎烤腔室的高度限定在10-15mm的范围内，可以提高食物上表面的煎烤效果，且通过将发热管与相应烤盘内侧壁之间的距离限定在50mm以内，可以减小烤盘的中心与边缘的温差，提高烤盘边缘处食物的煎烤效果，使得烤盘整体受热均匀，从而使得食物整体可以均匀地受热、成熟和上色。

主权项

一种煎烤装置，其特征在于，包括：下烤盘；上烤盘，所述上烤盘可转动地连接至所述下烤盘，且所述上烤盘与所述下烤盘之间限定出煎烤腔室，所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述煎烤腔室的高度为10‑15mm，所述上烤盘和所述下烤盘均为方形烤盘；发热管，所述发热管设在所述上烤盘和所述下烤盘的至少一个内且盘绕设置，所述发热管的中心线与其所在的所述上烤盘和/或下烤盘的内侧壁之间的最近距离不大于50mm。