Verfahren ung Vorrichtung zur Entfernung von Verunreinigungen aus einer Schmelze

摘要

Verfahren zur Entfernung von Verunreinigungen aus einer Schmelze umfassend die folgenden Schritte: – Bereitstellen mindestens eines ersten Tiegels (1) mit einer Schmelze (2) aus einem Halbleiter-Material, – wobei der Tiegel (1) einen Boden (3) und mindestens eine Seitenwand (4) aufweist und – zumindest teilweise mit einer Temperatur-Regelungs-Einrichtung (27) umgeben ist, – gerichtetes Erstarren der Schmelze (2) im Tiegel (1) gegen die Schwerkraft zur Ausbildung eines erstarrten Blocks (15), – wobei der erstarrte Block (15) im Bereich einer Erstarrungsfront (16) an eine Flüssigphase aus Rest-Schmelze (2) angrenzt, und – Entfernen zumindest eines Teils der Rest-Schmelze (17) aus dem Tiegel (1), – wobei zum Entfernen der Rest-Schmelze (17) aus dem Tiegel (1) eine Entfern-Einrichtung (11; 18; 23) vorgesehen ist, – dadurch gekennzeichnet, dass der Verlauf der Erstarrungsfont (16) beim Erstarren der Schmelze (2) durch ein asymmetrisches in einer Ebene senkrecht zu einer Vertikal-Richtung (5) nicht rotationssymmetrisches Temperaturfeld derart beeinflusst wird, dass sich die Rest-Schmelze (17) im Tiegel (1) in einem vorbestimmten Bereich sammelt.