| 摘要 |
Messanordnung zum optischen Monitoring von Beschichtungsprozessen von Substraten in einer Vakuumkammer (1), welche zumindest – einen Lichtsender, – eine im Strahlengang (12) des Lichtsenders angeordnete Lichtempfängereinheit (10) und – einen in der Vakuumkammer (1) über einer Beschichtungsquelle bewegbaren Substrathalter (2) mit zumindest einem Substrat (3), mit welchem das zumindest eine Substrat (3) im Strahlengang (12) zwischen dem Lichtsender und der Lichtempfängereinheit (10) positionierbar ist, umfasst, wobei – der Lichtsender innerhalb der Vakuumkammer (1) zwischen dem Substrathalter (2) und einer Blende (5) angeordnet ist, – die Blende (5) unterhalb des Substrathalters (2) angeordnet ist, und – der Lichtsender auf der der Beschichtungsquelle abgewandten Seite der Blende (5) befestigt ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Blende (5) während der Beschichtung einen Messbereich über der Beschichtungsquelle abschattet und Fremdlichteinflüsse in der Meßanordnung durch die Beschichtungsquelle und/oder Plasma- oder Ionenquellen verhindert. |
