| 发明名称 | 一种曝光机及用于曝光机的光学过滤器 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种曝光机及用于曝光机的光学过滤器，用以改善待曝光基板上的膜层曝光后形成的图案的CD值均一性差的问题，进而减少漏光及混色发生的概率，提升产品良率。曝光机，包括第一平面镜和蝇眼，其中，还包括位于所述第一平面镜和所述蝇眼之间的光学过滤器，所述光学过滤器用于改变进入所述蝇眼中的光的照度，使得曝光间距越大，照射到待曝光基板上的光的照度越小；所述曝光间距为当掩膜板在重力作用下发生弯曲时，待曝光基板与所述掩膜板之间的距离。 | ||
| 申请公布号 | CN105549339A | 申请公布日期 | 2016.05.04 |
| 申请号 | CN201610095196.6 | 申请日期 | 2016.02.19 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 发明人 | 闫春龙;郝明迁;白鑫 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种曝光机，包括第一平面镜和蝇眼，其特征在于，还包括位于所述第一平面镜和所述蝇眼之间的光学过滤器，所述光学过滤器用于改变进入所述蝇眼中的光的照度，使得曝光间距越大，照射到待曝光基板上的光的照度越小；所述曝光间距为当掩膜板在重力作用下发生弯曲时，待曝光基板与所述掩膜板之间的距离。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||