| 发明名称 | 通过包括限制材料层在相邻区域上方的侵蚀的选择性的化学反应来在小区域上方形成材料层 | ||
| 摘要 | 一种方法，所述方法的一方面包括通过借助于选择性的化学反应单独形成第一多个较薄层中的每个较薄层，来在具有第一表面材料的第一区域上方形成由第一材料构成的第一较厚层。该方法还包括限制第一多个较薄层中的每个较薄层在第二区域上方的侵蚀，该第二区域与第一区域相邻。在具有第二表面材料的第二区域上方形成由第二材料构成的第二较厚层，该第二表面材料与第一表面材料不同。 | ||
| 申请公布号 | CN105556644A | 申请公布日期 | 2016.05.04 |
| 申请号 | CN201380079183.4 | 申请日期 | 2013.09.27 |
| 申请人 | 英特尔公司 | 发明人 | R·L·布里斯托尔;J·M·布莱克韦尔;S·B·克伦德宁;F·格瑟特莱恩;E·韩;G·M·克洛斯特;J·M·罗伯茨;P·E·罗梅罗;R·胡拉尼 |
| 分类号 | H01L21/31(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/31(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 陈松涛;王英 |
| 主权项 | 一种制造方法，包括：通过借助于选择性的化学反应单独形成第一多个较薄层中的每个较薄层，来在具有第一表面材料的第一区域上方形成由第一材料构成的第一较厚层；限制所述第一多个较薄层中的每个较薄层在第二区域上方的侵蚀，所述第二区域与所述第一区域相邻；以及在具有第二表面材料的所述第二区域上方形成由第二材料构成的第二较厚层，所述第二表面材料与所述第一表面材料不同。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚 | ||