| 摘要 |
플라즈마 발생장치 및 이를 구비한 기판 처리장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생장치는, 기판에 증착물질을 제공하는 타겟모듈; 타겟모듈과 전기적으로 분리된 접지부; 타겟모듈과 접지부 사이에 마련된 절연부; 및 타겟모듈의 일측에 마련되되, 타겟모듈에 파워를 공급하는 파워공급부를 포함하며, 타겟모듈과 접지부 사이의 정전용량을 조절하여 타겟모듈의 파워흡수율 분포를 제어하도록, 타겟모듈과 접지부 사이의 간격이 비균일하게 형성된다. |
