| 摘要 |
가동 하부 전극을 갖는 플라즈마 처리 챔버 내의 검출 회로 장치가 제공된다. 본 장치는 제 1 가요성 커넥터 단부, 제 2 가요성 커넥터 단부 및 적어도 슬릿을 갖는 가요성 커넥터를 포함한다. 슬릿의 적어도 일부는 두개의 가요성 커넥터 단부 사이에 형성된 라인과 평행한 방향으로 배치된다. 일단부가 가동 하부 전극에 연결되고 타단부가 플라즈마 처리 챔버의 컴포넌트에 연결된다. 가요성 컨덕터는 가동 하부 전극과 플라즈마 처리 챔버의 컴포넌트 사이에 저 임피던스 전류 경로를 제공한다. 본 장치는 또한 슬릿의 일측상에 배치된 커넥터 재료를 통하여 흐르는 전류를 검출하는 수단을 포함한다. 이 검출 수단은 적어도 컨덕터 재료에 권취되는 코일 및 마모로 인한 전류 흐름 인터럽션을 검출하기 위하여 코일에 연결된 검출기 회로를 포함한다. |
