| 摘要 |
본 발명은 고감도이고 또한 홀드 타임에 의한 감도 저하 (즉 감도 변화) 가 적은, 즉 보존 안정성이 양호한 감광성 수지 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은 그 감광성 수지 적층체를 사용하여, 기판 상에 감광성 수지층을 형성하고, 그 감광성 수지층을 노광 및 현상하는 것을 포함하는 레지스트 패턴의 형성 방법을 제공하는 것도 목적으로 한다. 본 발명은 지지체 필름과, 감광성 수지 조성물로 이루어지는 감광성 수지층과, 보호 필름을 적어도 포함하는 적층체로서, 그 보호 필름이 하기 일반식 (I)：(식 중, R및 R는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다) 로 나타내는 구조를 포함하는 산화 방지제를 함유하고, 그 산화 방지제의 페놀 당량이 3.1 × 10이하이고, 그 보호 필름 중의 그 산화 방지제의 함유량이, 1 ppm 보다 많고 3000 ppm 이하인, 감광성 수지 적층체를 제공한다. |
