图案形成方法及光阻组成物

摘要

明提供一种图案形成方法，系将包含具有羧基之氢原子取代为式(1)表示之酸不稳定基之重复单元的高分子化合物及视须要之酸产生剂的光阻组成物涂布在基板上，加热处理后以高能射线将上述光阻膜曝光，加热处理后使用有机溶剂制得之显影液使未曝光部溶解，获得曝光部未溶解之负型图案；

主权项

一种图案形成方法，其特征为：将包含具有羧基之氢原子取代为下列通式(1)表示之酸不稳定基而得之重复单元、下列通式表示之重复单元(d1)、(d2)、(d3)中之任一者的高分子化合物及视需要之酸产生剂的光阻组成物，涂布在基板上，加热处理后以高能射线将该光阻膜曝光，加热处理后使用利用有机溶剂所为之显影液使未曝光部溶解，获得曝光部未溶解之负型图案；

式中，R1为碳数1~7之直链状、分支状或环状之烷基，R2、R3、R4为氢原子、甲基或乙基，且R2、R3、R4中之2个以上不为氢原子，惟，排除R2、R3、R4中之任2个为甲基、余为氢原子的情形；R5为氢原子或甲基，R6为亚甲基或伸乙基

式中，R020、R024、R028为氢原子或甲基，R021为单键、伸苯基、-O-R033-、或-C(=O)-Y-R033-；Y为氧原子或NH，R033为碳数1~6之直链状、分支状或环状之伸烷基、伸烯基或伸苯基，且也可含有羰基(-CO-)、酯基(-COO-)、醚基(-O-)或羟基；R022、R023、R025、R026、R027、R029、R030、R031为相同或不同之碳数1~12之直链状、分支状或环状之烷基，也可含有羰基、酯基或醚基，或表示碳数6~12之芳基、碳数7~20之芳烷基或苯硫基；Z1为单键、亚甲基、伸乙基、伸苯基、氟化之伸苯基、-O-R032-、或-C(=O)-Z2-R032-；Z2为氧原子或NH，R032为碳数1~6之直链状、分支状或环状之伸烷基、伸烯基或伸苯基，且也可含有羰基、酯基、醚基或羟基；M-表
示非亲核性相对离子；0≦d1≦0.3、0≦d2≦0.3、0≦d3≦0.3、0