发明名称 |
用于紫外线反应器之挡板 |
摘要 |
用于处置流体之反应器。该反应器包含具有用以接纳流体之入口及用以排放流体之出口的容器。该反应器更包含紫外线光源及复数个挡板。该等挡板包含配置成预定组态之复数个孔用以在反应器中接近紫外线光源之区域提供栓状流。
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申请公布号 |
TWI531539 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
申请号 |
TW099132317 |
申请日期 |
2010.09.24 |
申请人 |
伊芙卡水科技私人有限公司 |
发明人 |
雍 芝明吉米;史提比兹 大卫;寇特 布鲁斯李;胡瑟 麦可史考特 |
分类号 |
C02F1/32(2006.01) |
主分类号 |
C02F1/32(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
阎启泰;林景郁 |
主权项 |
一种用于处置流体之反应器,其包括:一容器,其具有一第一端部、一接近该第一端部用以接纳流体的入口、以及一用以排出流体的出口,该第一端部包含一圆顶部;一紫外线光源,其位于该容器内;一第一挡板及一第二挡板,其位于该容器内,其中该第一及第二挡板包含配置成一预定组态的孔;以及一分流板,其位于该第一挡板上,其中该分流板系相对于该第一挡板而形成角度以重新导向入口流体朝向该容器的该圆顶部。
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地址 |
新加坡 |