发明名称 半导体装置及半导体装置的制造方法
摘要 半导体装置(100)的制造方法,包括:配置至少含有锡之焊接材料(4)于半导体元件(6)与备有镍层(2a)及铜层(22)的接合构件(2b)之间,而使焊接材料与铜层接触,镍层设于接合构件之表面上,及铜层设于镍层之至少部分表面上;及使用焊接材料之锡及铜层熔化且凝固焊接材料,以形成Cu6Sn5(铜锡合金)于镍层之表面上。
申请公布号 TW201616587 申请公布日期 2016.05.01
申请号 TW104135423 申请日期 2015.10.28
申请人 丰田自动车股份有限公司 发明人 门口卓矢;柳本博;平冈基记
分类号 H01L21/60(2006.01);H01L23/48(2006.01) 主分类号 H01L21/60(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种半导体装置(100)的制造方法,其特征在包含:配置至少含有锡之焊接材料(4)于半导体元件(6)与备有镍层(2a)及铜层(22)的接合构件(2b)之间,而使该焊接材料与该铜层接触,该镍层设于该接合构件之表面上,及该铜层设于该镍层之至少部分表面上;及使用该焊接材料之锡及该铜层熔化且凝固该焊接材料,以形成Cu6Sn5于该镍层之表面上。
地址 日本