| 发明名称 |
低折射层用涂覆组合物及其制备方法 |
| 摘要 |
明提供一种包含矽氧烷化合物的低折射层用涂覆组合物及包含该低折射层用涂覆组合物的低折射膜。并且，本发明提供一种低折射层用涂覆组合物的制备方法，其包括：将烷氧基矽烷化合物和官能性矽烷化合物混合而形成矽氧烷化合物，该官能性矽烷化合物是选自于由碳数1至18的烷基、丙烯酸基、缩水甘油基及它们的组合所组成之群组中的至少一个取代的官能性矽烷化合物；使该矽氧烷化合物发生溶胶凝胶反应来形成网状结构的高分子矽氧烷化合物；以及对该高分子矽氧烷化合物进行时效处理。
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| 申请公布号 |
TWI531626 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
| 申请号 |
TW103102337 |
申请日期 |
2014.01.22 |
| 申请人 |
乐金华奥斯有限公司 |
发明人 |
金宪助;柳茂善;徐知延;金源国 |
| 分类号 |
C09D183/04(2006.01);C09D5/00(2006.01);G02B1/10(2015.01) |
主分类号 |
C09D183/04(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
康清敬 |
| 主权项 |
一种低折射层用涂覆组合物，包括如下的化学式1的矽氧烷化合物：[化学式1](R1)n-Si-(O-R2)4-n，其中该R1为碳数1至18的烷基、乙烯基、烯丙基、环氧基或丙烯酸基，该R2为碳数1至6的烷基或乙醯氧基，该n为0<n<4的整数；该矽氧烷化合物由烷氧基矽烷化合物和官能性矽烷化合物混合而成，该官能性矽烷化合物是选自于由碳数1至18的烷基、丙烯酸基、缩水甘油基及它们的组合所组成之群组中的至少一个取代的官能性矽烷化合物；该烷氧基矽烷化合物/官能性矽烷化合物的莫耳比为1至50。
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| 地址 |
南韩 |
