发明名称 |
逐层去除石墨烯的方法 |
摘要 |
逐层去除石墨烯的方法,所述方法包括:设置一单层或多层石墨烯于一热源上、放置石墨烯以及热源于一含有臭氧的密闭腔体内,以及利用雷射去除目标区域的石墨烯。此种去除石墨烯的方法可以在低温的条件下,由雷射光精确控制逐层去除石墨烯。另外,还可选择性的控制或调整所述热源、雷射以及具有强氧化力的臭氧以去除石墨烯。
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申请公布号 |
TWI531532 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
申请号 |
TW103127303 |
申请日期 |
2014.08.08 |
申请人 |
国立清华大学 |
发明人 |
陈宛桢;许玮仁;邓博元;邱博文 |
分类号 |
C01B31/04(2006.01);B23K26/36(2014.01);H01L21/28(2006.01);H01L21/314(2006.01);H01L21/321(2006.01);H01L33/40(2010.01);H01L31/0224(2006.01);B23K101/40(2006.01) |
主分类号 |
C01B31/04(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
赖正健;陈家辉 |
主权项 |
一种逐层去除石墨烯的方法,包括:提供至少一层石墨烯于一密闭空间中;提供一石墨烯强氧化剂于所述密闭空间中;提供一热源用以加热所述石墨烯;以及提供一可调整功率的雷射,所述雷射用以定义一预设图案于所述石墨烯上,并藉由一回馈控制器来判断预去除之所述石墨烯与剩余之所述石墨烯的层数差异,进而根据欲去除之所述石墨烯与剩余之所述石墨烯的层数差异来决定雷射功率,以除去欲去除之所述石墨烯;其中,每一层所述石墨烯的来回光吸收率约为4.6%,所述回馈控制器藉由所述光吸收率来判断预去除之所述石墨烯与剩余之所述石墨烯的层数差异。
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地址 |
新竹市光复路2段101号 |