具有含有脂肪族多环结构之有机基之含矽阻剂下层膜形成组成物

摘要

明系提供将上层阻剂进行曝光，以硷显影液或有机溶剂显影时，可形成优异之阻剂图型形状的阻剂下层膜及其形成组成物。

主权项

一种含有脂肪族多环结构之微影用阻剂下层膜形成组成物，其系含有作为矽烷之水解性矽烷、其水解物、其水解缩合物、或彼等之组合，其中脂肪族多环结构为以式(1)：[化1]R1aR2bSi(R3)4-(a+b) 式(1)(式(1)中，R1含有脂肪族多环结构，且以Si-C键与Si原子键结之有机基，R2为烷基、芳基、卤素化烷基、卤素化芳基、烷氧基芳基、烯基、或具有环氧基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、巯基、胺基、或氰基之有机基，且藉由Si-C键与矽原子键结者，R3表示乙氧基，a表示1之整数，b表示0~2之整数，a+b表示1~3之整数)表示之水解性矽烷所具有的结构，或包含于以可具有双键、羟基、或环氧基之脂肪族多环化合物、脂肪族多环式二羧酸、或脂肪族多环式二羧酸酐来添加之化合物的结构。