发明名称 半导体结构及其制造方法
摘要 半导体结构包括:一装置;在该装置上方之一导电衬垫;及安置在该导电衬垫上之一Ag1-xYx合金柱,其中该Ag1-xYx合金之Y包含以任意重量百分比与Ag形成完全固溶体之金属,且其中该Ag1-xYx合金之X在约0.005至约0.25之范围内。
申请公布号 TWI532131 申请公布日期 2016.05.01
申请号 TW102148605 申请日期 2013.12.27
申请人 南茂科技股份有限公司 发明人 郑世杰;卢东宝
分类号 H01L23/48(2006.01);H01L21/60(2006.01) 主分类号 H01L23/48(2006.01)
代理机构 代理人 洪荣宗
主权项 一种半导体结构,其包含:一装置;在该装置上方之一导电衬垫;及安置在该导电衬垫上之一Ag1-xYx合金柱,其中该Ag1-xYx合金之Y包含以任意重量百分比与Ag形成完全固溶体之金属,且其中该Ag1-xYx合金之X在约0.005至约0.25之范围内,且其中该半导体结构包含一覆盖部件,该覆盖部件安置在该Ag1-xYx合金柱上且包括用于与另一半导体结构电连接的一焊料材料。
地址 新竹县新竹科学工业园区研发一路1号