| 发明名称 |
积层膜及可挠性电子装置 |
| 摘要 |
明之课题系提供一种当将相异种类之层设置于薄膜层上时耐冲击性优异之气体障壁性积层膜。
|
| 申请公布号 |
TW201615878 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
| 申请号 |
TW104129484 |
申请日期 |
2015.09.07 |
| 申请人 |
住友化学股份有限公司 |
发明人 |
山下恭弘;中岛秀明;伊藤豊 |
| 分类号 |
C23C16/30(2006.01);C23C16/40(2006.01);B32B9/04(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/30(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
洪武雄;陈昭诚 |
| 主权项 |
一种积层膜，其系具备可挠性基材、形成于前述基材之至少一侧之表面上之薄膜层，其中，前述薄膜层含有矽原子(Si)、氧原子(O)及碳原子(C)，针对前述薄膜层之表面进行X射线光电子光谱测定时，使用由宽谱扫描能谱所得之相当于Si之2p、O之1s、N之1s、及C之1s各自之结合能的谱峰所算出之碳原子对矽原子之原子数比在下述式(1)之范围，以红外光谱测定之ATR法测定前述薄膜层表面时，存在于950至1050cm-1之谱峰强度(I1)、与存在于1240至1290cm-1之谱峰强度(I2)的强度比在下述式(2)之范围，0.01<C/Si≦0.20 (1) 0.01≦I2/I1<0.05 (2)。
|
| 地址 |
日本 |
