| 发明名称 |
从气体流移除氢及一氧化碳杂质的方法 |
| 摘要 |
一氧化碳杂质系从包含该等杂质的乾燥气体移除，其中该乾燥气体至少实质上不含二氧化碳，该方法系藉由使该乾燥气体配合充分的滞留时间，例如至少1.5秒，通过包含氧化锰和氧化铜的混合物之触媒层。藉以可避免使用用以移除氢的昂贵贵重金属触媒。除此之外，使用含氧的再生气体使该触媒再生不会降低该触媒的有效性。
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| 申请公布号 |
TWI531404 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
| 申请号 |
TW103112749 |
申请日期 |
2014.04.07 |
| 申请人 |
气体产品及化学品股份公司 |
发明人 |
戈登 提蒙斯 克里斯多夫;哈夫顿 杰夫瑞 雷蒙;卡巴瑟 默罕莫德 阿里;劳 盖瑞特 Ｃ;瓦威鲁 克里斯汀;莱维尔 克里斯多夫 詹姆士;塞基特 克里斯多夫;兹威林 丹尼尔 派克 |
| 分类号 |
B01D53/02(2006.01);B01D53/86(2006.01) |
主分类号 |
B01D53/02(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈展俊;林圣富 |
| 主权项 |
一种从包含氢及一氧化碳杂质的乾燥气体移除该等杂质之方法，其中该乾燥气体至少实质上不含二氧化碳，该方法包含使该乾燥气体通过包含氧化锰和氧化铜的混合物之触媒层，配合充分之滞留时间以生产从该包含氧化锰和氧化铜的混合物之触媒层排出的至少实质上不含氢及一氧化碳的产物气体，其中于该触媒层中的滞留时间系至少1.5秒。
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| 地址 |
美国 |
