| 发明名称 |
光学薄膜用黏着剂层及其制造方法、黏着型光学薄膜及其制造方法、影像显示装置以及涂布液供给装置 |
| 摘要 |
明系提供一种光学薄膜用黏着剂层之制造方法，其特征在于包含过滤步骤及涂布．乾燥步骤，其中该过滤步骤系使用过滤精度为1~20μm之深度型滤芯(depth type filters)，将含有水分散型黏着剂之黏着剂涂布液在差压超过0kPa且150kPa以下的状态进行过滤处理；而该涂布．乾燥步骤系将该过滤处理后的前述黏着剂涂布液涂布之后，进行乾燥。
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| 申请公布号 |
TWI531635 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
| 申请号 |
TW101114518 |
申请日期 |
2012.04.24 |
| 申请人 |
日东电工股份有限公司 |
发明人 |
塘口直树;石井孝证;卷幡阳介;增田友昭;柳成镇;诸星勉 |
| 分类号 |
C09J7/02(2006.01) |
主分类号 |
C09J7/02(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
| 主权项 |
一种光学薄膜用黏着剂层之制造方法，其特征在于包含：过滤步骤，系使用过滤精度为1~20μm之深度型滤芯，将含有水分散型黏着剂之黏着剂涂布液在差压超过0kPa且150kPa以下的状态进行过滤处理；及涂布．乾燥步骤，系将该过滤处理后的前述黏着剂涂布液涂布之后进行乾燥。
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| 地址 |
日本 |
