| 发明名称 |
偏光性积层膜的制造方法及附保护膜之延伸膜 |
| 摘要 |
明系依序包含：于延伸膜(1)中，将保护膜(2)贴合于聚乙烯醇系树脂层之与基材膜为相反侧的面而得到附保护膜之延伸膜(3)之贴合步骤(S30)，卷取附保护膜之延伸膜(3)之卷取步骤(S40)，卷出附保护膜之延伸膜(3)并将保护膜(2)从延伸膜(1)剥离之剥离步骤(S50)，以及将延伸膜(1)染色而得到偏光性积层膜之染色步骤(S60)；于卷取步骤(S40)中，附保护膜之延伸膜(3)中，聚乙烯醇系树脂层之宽度方向的两端部与保护膜(2)之宽度方向的两端部之位置不一致。
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| 申请公布号 |
TW201615383 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
| 申请号 |
TW104127856 |
申请日期 |
2015.08.26 |
| 申请人 |
住友化学股份有限公司 |
发明人 |
川薫 |
| 分类号 |
B29C55/04(2006.01);B29C73/00(2006.01);B32B38/00(2006.01);B32B27/30(2006.01);G02B5/30(2006.01);B29L9/00(2006.01);B29L11/00(2006.01) |
主分类号 |
B29C55/04(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄;陈昭诚 |
| 主权项 |
一种偏光性积层膜的制造方法，其系依序包含：于基材膜上形成聚乙烯醇系树脂层而得到积层膜之树脂层形成步骤，将前述积层膜延伸而得到延伸膜之延伸步骤，于前述延伸膜中，将保护膜贴合于前述聚乙烯醇系树脂层之与前述基材膜为相反侧的面而得到附保护膜之延伸膜之贴合步骤，卷取前述附保护膜之延伸膜之卷取步骤，卷出前述附保护膜之延伸膜并将前述保护膜从前述延伸膜剥离之剥离步骤，以及将前述延伸膜染色而得到偏光性积层膜之染色步骤；于前述卷取步骤中，前述附保护膜之延伸膜中，前述聚乙烯醇系树脂层之宽度方向的两端部与前述保护膜之宽度方向的两端部之位置不一致。
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| 地址 |
日本 |
