| 发明名称 |
负型光阻剂组成及其中的多官能聚合物 |
| 摘要 |
负型光阻剂组成，其包含一自由光酸产生剂及共价结合至光酸产生部份之多官能聚合物，其中该组成实质上不含交联剂。亦提供用于与光阻剂组成结合之多官能聚合物，其系使用本组成及聚合物在一基板上产生光阻剂影像之制程。
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| 申请公布号 |
TW201616224 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
| 申请号 |
TW104129649 |
申请日期 |
2015.09.08 |
| 申请人 |
万国商业机器公司;信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
博森诺 柳纱Ｄ;桑切斯 马修Ｉ;桑德斯 丹尼尔Ｐ;斯里雅酷马罗 拉特南;桑德博格 琳达Ｋ;河合义夫;渡邉聡;増永恵一;土门大将 |
| 分类号 |
G03F7/004(2006.01);C08F212/14(2006.01);C08F220/26(2006.01);C08F220/38(2006.01);G03F7/038(2006.01);G03F7/38(2006.01);G03F7/32(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
李宗德 |
| 主权项 |
一种水基可显影负型光阻剂组成，其实质上不含交联剂，并包含：一多官能聚合物，其包含赋予水基显影剂中之溶解性之第一循环单元、含有一极性转换部份之第二循环单元、及含有一共价连结之光酸产生基团之第三循环单元。
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| 地址 |
美国;日本 |
