| 发明名称 | 靶材处理设备 | ||
| 摘要 | 靶材处理设备，适用于处理包含正板与背板之靶材。靶材处理设备包含背板研磨装置、喷砂装置以及正板研磨装置。背板研磨装置用以研磨背板。喷砂装置设于背板研磨装置之一侧，用以粗糙化一部分之背板。正板研磨装置设于喷砂装置之一侧，用以研磨正板。 | ||
| 申请公布号 | TW201615869 | 申请公布日期 | 2016.05.01 |
| 申请号 | TW103137671 | 申请日期 | 2014.10.30 |
| 申请人 | 住华科技股份有限公司 | 发明人 | 杨清河;孙璿程;翁基祥;苏梦鹏;吴智稳;林俊宏 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 祁明辉;林素华;涂绮玲 | |
| 主权项 | 一种靶材处理设备，适用于处理包含一正板与一背板之一靶材，该靶材处理设备包含：一背板研磨装置，用以研磨该背板；一喷砂装置，设于该背板研磨装置之一侧，用以粗糙化一部分之该背板；以及一正板研磨装置，设于该喷砂装置之一侧，用以研磨该正板。 | ||
| 地址 | 台南市善化区环东路2段32号 | ||