| 摘要 |
본 발명의 하나의 형태로서, 본 발명은 공정 기체를 이용하여 작업부재를 화학적으로 에칭하기 위한 장치로 구성되며, 상기 장치는 공정 기체를 수용하기 위한 챔버와, 배출 기체를 빼내기 위한 펌핑 포트를 포함하고, 상기 챔버 내에서, 상기 펌핑 포트의 상류에 위치하는 작업부재 지지대를 포함하고, 상기 챔버는 펌핑 포트의 상류와 작업부재 지지대의 하류 사이에 위치하는 서브-챔버(sub-chamber)를 더 포함하며, 상기 서브-챔버는 창을 포함하고, 상기 서브-챔버는 창을 포함하고, 배출 기체의 시료에서 플라스마를 발생시켜 상기 창을 통해 모니터링될 수 있는 광학적 발산(optical emission)을 야기하기 위한, 상기 창에 인접한 여기원(excitation source)을 포함한다. |
