| 发明名称 |
LITHOGRAPHIC APPARATUS PROGRAMMABLE PATTERNING DEVICE AND LITHOGRAPHIC METHOD |
| 摘要 |
일 실시예에서, 복수의 빔을 원하는 패턴에 따라서 변조하는 변조기 및 변조된 빔이 충돌하는 도너 구조체를 포함하는 리소그래피 장치가 개시된다. 도너 구조체는 충돌하는 변조된 빔이 도너 재료가 도너 구조체로부터 기판으로 전사되게 하도록 구성된다. |
| 申请公布号 |
KR101616761(B1) |
申请公布日期 |
2016.04.29 |
| 申请号 |
KR20147003816 |
申请日期 |
2012.07.20 |
| 申请人 |
에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. |
发明人 |
드 야거 피터;바니너 바딤;블리커 아르노;반 더 슈트 하르멘;스티븐스 루카스;베르뮬렌 요하네스;부이스터 샌더 |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
